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反渗透设备如何延长使用寿命

发布日期:

2021-09-15 08:00:30

栏目:

膜法水处理资讯

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一、反渗透设备

反渗透设备是将原水经过精细过滤器、颗粒活性碳过滤器、压缩活性碳过滤器等,再通过泵加压,利用孔径为1/10000μm(相当于大肠杆菌大小的1/6000,病毒的1/300)的反渗透膜(RO膜),使较高浓度的水变为低浓度水,同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离,从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准,产出至清至纯的水,是人体及时补充水分的科学选择.由于RO反渗透技术生产的水纯净度是目前人类掌握的一切制水技术中很高的,所以人们称这种产水机器为反渗透纯净水机。




反渗透纯净水设备中设计了一种反渗透膜。膜两侧的压力不同,通过两侧的压力为动力,压迫原水通过反渗透膜,盐的浓度低的会向浓度高的盐方向渗透,能够达到的平衡状态下,就是液体的渗透压。当含有的盐水一侧的压力对于另一侧的渗透压力时候,就会发生反方向的流动,就产生了反渗透过程。

二、反渗透设备预处理调试

预处理质量的好坏是关系反渗透设备能够稳定运行的关键。当反渗透设备进水采用地下水时,采用石英砂和活性炭的预处理是没有问题的,在使用地表水时就不同了。

1、反渗透设备预处理药剂

处理中使用的药剂包括混凝剂、助凝剂、氧化剂、还原剂、阻垢剂等,尤其是混凝剂和阻垢剂,这些药剂的选择、加药量甚至药品配方法都会对反渗透的运行有很大影响。

通常,我们会注意检测进水的铁含量,其实进水中的铝含量高也会造成反渗透膜的污染。铝对膜的污染是由于氢氧化铝沉淀而导致的,氢氧化铝沉淀物通常以胶体形式存在,是一种两性氢氧化物,在6.5-6.7pH范围内具有很小的溶解度,如果铝凝聚过程在太高或太低的pH值下进行,铝离子将进入反渗透装置中造成反渗透膜的污染,因此对于采用铝盐为凝聚剂的预处理系统,其pH值控制在6.5-6.7,使铝的溶解度达到底限,注意根据水质及时调整加药量,可能的话要定期检测经预处理过的水中的铝含量,并控制在0.05mg/L以下。

为了防止浓水侧的结垢,我们通常会加入阻垢剂,目前的阻垢剂对一些有机酸、有机磷酸盐类物质复配而成,达到阻垢、分散的目的。如果选择或控制不当,这些有机物会污堵反渗透膜元件,同时它也会成为滋生细菌微生物的温床,并对反渗透的运行带来更大的危害。

2、温度

大家都知道温度对反渗透膜元件的通量有很大的影响,因此在计算产水量的时候对温度进行校核才能相互比较。所以在冬季水温低的地方反渗透的预处理系统中会设计加热设备,这样可以有效保证冬季反渗透设备也能达到设计出力。

膜元件中SiO₂沉淀,也同反渗透装置的进水温度有密切的关系,浓水中的二氧化硅浓度,25℃时不能超过100mg/l5℃时不能超过25mg/l。因此,当预处理系统中无加热设备时,在冬季要十分注意二氧化硅沉淀物对膜元件的污染问题,严格控制浓水中的二氧化硅的含量,其值不能超过在该温度下的溶解度。

三、反渗透设备运行人员的培训

运行人员技能水平的高低取决于运行人员能否及时发现并正确处理系统的缺陷和隐患,这一点是影响反渗透设备运行的重要因素。运行人员的误操作对系统的危害大,而且对膜元件的损坏通常是无法恢复的。反渗透设备重启前和运行后的冲洗工作一定要做好,防止设备中有残余气体在高压下运行,形成气锤损坏膜,以及膜浓水侧的无机盐的浓度高于原水,易结垢而污染膜。

四、反渗透设备的运行管理

1、反渗透设备定期检查

定期检查、及时更换保安过滤器滤芯,防止滤芯因安装或质量问题发生泄漏所引起的反渗透膜的颗粒污染。当保安过滤器进口压差大于0.15MPa时,应更换滤芯。一般应每月检查一次,滤芯使用时间不宜超过6个月,运行时还应经常检查保安过滤器内是够有气体,不能让空气带入。

2、反渗透膜元件的检查

1) 一般每隔半年(必要时可缩短时间),要对每套反渗透的一段、二段膜元件进行检查。

2)代开压力容器端盖(使用专用工具,并由技术熟练的技工操作)。

 3)检查进水段有无机械杂质、金属氧化物沉积,有无细菌微生物滋生,膜元件颜色有无变化,检查膜有无结垢。

 4)如果需要还可以抽出反渗透膜元件进行细致检查,再抽进水端膜元件时,一定不能直接抽,要把按水流方向它从压力容器推出,安装时同样。

5)每次检查完要做详细记录,以便进行对比。




3、各表计定期校验,保证仪表准确可靠。

4、定期对反渗透设备运行数据分析统计。

操作压力、回收率(或浓水排放量)、进水的SDI(污染指数)、pH、余氯和温度是反渗透装置的主要运行控制参数。

脱盐率、产水量和压差是三个主要监视性能参数。

在运行管理中须严格遵守,决不能随意改变操作条件。

要防止提高回收率来增加产水量,导致反渗透膜面产生结垢;

要防止在SDI值超标的情况下继续运行,导致反渗透膜的堵塞;

要防止在允许压差以上继续工作而造成膜元件的破坏性损坏。

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